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  • VIL1000激光干涉光刻機
    VIL1000激光干涉光刻機

    VIL1000激光干涉光刻機 VIL系列納米圖形系統(激光干涉光刻機)具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩定和精確樣品定位等強大功能。該系統可以通過使用標準2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場進行重復曝光,在8英寸大面積上產生各種納米結構,例如1D光柵線和2D柱/孔圖案,周期從240 nm到1500 nm。

    更新時間:2022-12-15型號:瀏覽量:509
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